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偏压介绍
直流偏压电弧离子镀工艺中,为了抑制正离子对基体表面连续轰击而导致的基体温度过高,主要采取减少沉积功率、缩短沉积时间、采用间歇沉积方式等措施来降低沉积温度，这些措施可以概括地称为能量控制法"这种方法虽然可以降低…
金属材料学与热处理名词解释汇总
将工件加热至Ac3(Ac是指加热时自由铁素体全部转变为奥氏体的终了温度，一般是从727℃到912℃之间)或Acm(Acm是实际加热中过共析钢完全奥氏体化的临界温度线)以上30~50℃，保温一段时间后，从炉中取…
光学镀膜技术
光学薄膜在我们的生活中无处不在,从精密及光学设备、显示器设备到日常生活中的光学薄膜应用;比方说,平时戴的眼镜、数码相机、各式家电用品,或者是钞票上的防伪技术,皆能被称之为光学薄膜技术应用之延伸。
电弧离子镀技术中脉冲偏压
近年来在电弧离子镀中脉冲负偏压越来越得到人们的重视,脉冲偏压电源的使用使电弧离子镀技术得到了更快的发展.
磁控溅射的种类
磁控溅射包括很多种类.各有不同工作原理和应用对象.
通过低溅射电压制备ITO薄膜的工艺和方法
利用HDAP法能获得电阻率较低的ITO薄膜,尤其是在基片温度不能太高的材料上制备ITO薄膜时,使用HDAP法制备ITO薄膜可以得到较理想的ITO薄膜
影响ITO薄膜导电性能的几个因素
制备ITO薄膜时要得到不同的膜层厚度比较容易,而ITO薄膜的电阻率(ρ)的大小则是ITO薄膜制备工艺的关键。
表面覆膜技术
表面覆膜技术包括热喷涂、真空镀、电镀。
蒸镀的加热方式
蒸镀的加热方式包括几种?各具有什么特点呢？
PVD技术常用的方法和介绍
PVD基本方法：真空蒸发、溅射、离子镀（空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀）

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