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技术服务分类
常见问题汇总
  • 靶材背靶绑定介绍
    背靶绑定是指用焊料将靶材与背靶焊接起来.主要有三种的方式:压接、钎焊和导电胶.靶材绑定常用钎焊,钎料常用In、Sn、In –Sn,一般使用软钎料的情况下,要求溅射功率小于20W/㎝
  • 十七种稀土元素介绍
    稀土是化学元素周期表中镧系元素镧(La)、铈(Ce)、镨(Pr)、钕(Nd)、钷(Pm)、钐(Sm)、铕(Eu)、钆(Gd)、铽(Tb)、镝(Dy)、钬(Ho)、铒(Er)、铥(Tm)、镱(Yb)、镥(Lu)以及钪(Sc)和钇(Y)的17种元素的总称.钪和钇常与矿床中的镧系元素共生,因而具有相似的化学性质,属于稀土元素.
  • 材料行业 | 高纯溅射靶材
    溅射靶材的种类较多,即使相同材质的溅射靶材也有不同的规格.按照不同的分类方法,能够将溅射靶材分为不同的类别
  • 真空计的分类及原理
    真空计(Vacuum Gauge),又称规,是测量真空度或气压的仪器,一般利用不同气压下的某种物理效应的变化进行气压的测量,在科研和工业生产中广泛使用。
  • 蒸发和磁控溅射镀膜的性能分析
    常用电较材料Al通过这两种方法制备成薄膜电较的膜厚控制、附着力、致密性、电导率和折射率等重要性能指标,测试结果分析表明磁控溅射铝膜的综合性能优于电子束蒸发.
  • 镀膜设备中常用的离子源丨起源、原理、分类
    离子源是使中性原子或分子电离,并从中引出离子束流的装置.离子源是各种类型的离子加速器.质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机、离子束刻蚀及清洗装置、离子束溅射装置、离子束辅助沉积装置、离子推进器以及受控聚变装置中的中性束注入器等设备的不可缺少的部件.
  • 做靶材的材料人需要了解的金属材料的物理、化学和力学性能
    本文中,我们将讨论金属材料的物理,化学和力学性能.金属材料的性能很多,不同的使用要求和使用环境,具有相应的性能要求.
  • 电子束蒸发镀膜原理
    电子束蒸发是一种物理气相沉积 (PVD)技术,它在真空下利用电子束直接加热蒸发材料(通常是颗粒),并将蒸发的材料输送到基板上形成一个薄膜.电子束蒸镀可以镀出高纯度、高精度的薄膜.
  • 钼及钼合金溅射靶材
    钼及钼合金溅射靶材已广泛应用于各个行业,对其做一下介绍。
  • ITO溅射靶材的制作方法
    ITO溅射靶材的制作方法以及他们的优缺点

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