1)杂质含量低，纯度高。靶材的纯度影响薄膜的均匀性。

2)高致密度。高致密度靶材具有导电、导热性好、强度高等优点，使用这种靶材镀膜，溅射功率小，成膜速率高，薄膜不易开裂，靶材使用寿命长，而且溅镀薄膜的电阻率低，透光率高。

3)成分与组织结构均匀。靶材成分均匀是镀膜质量稳定的重要保证。

4)晶粒尺寸细小。靶的晶粒尺寸越细小，溅镀薄膜的厚度分布越均匀，溅射速率越快。

制造工艺

目前靶材的制备主要有铸造法和粉末冶金法。

铸造法：将一定成分配比的合金原料熔炼，再将合金溶液浇注于模具中，形成铸锭，最后经机械加工制成靶材，铸造法在真空中熔炼、铸造。

常用的熔炼方法有真空感应熔炼、真空电弧熔炼和真空电子轰击熔炼等。

优点是靶材杂质含量（特别是气体杂质含量）低，密度高，可大型化；

缺点是对熔点和密度相差较大的两种或两种以上金属，普通熔炼法难以获得成分均匀的合金靶材。

粉末冶金法：将一定成分配比的合金原料熔炼，浇注成铸锭后再粉碎，将粉碎形成的粉末经等静压成形，再高温烧结，最终形成靶材。

优点是靶材成分均匀；

缺点是密度低，杂质含量高等，常用的粉末冶金工艺包括冷压、真空热压和热等静压等。

靶材分类

根据不同材质分类：

可分为金属靶材，陶瓷（氧化物、氮化物等）靶材，合金靶材。

根据不同形状分类：

可分为矩形靶、圆形靶、柱形靶、空心旋转圆管靶以及异形靶。