光学镀膜 光学膜

1.蒸发镀膜设备 蒸发镀膜设备可用于加工ABS、PS、PP、PC、PVC、TPU、尼龙、金属、玻璃、陶瓷等材质产品；

与传统的直空蒸发镀膜相比，溅射镀膜有以下特点: (1)可以溅射大部分材料，尤其是高熔点、低蒸气压元素和化合物。只要是固体的金属、半导体、绝缘体、化合物和混合物等，基本都可以作为靶材。由于溅射氧化物等绝缘材料和合金时，几乎不发生分解和分馏，因而可用于制备与靶材组分相近的薄膜和组分均匀的合金膜，乃至成分复杂的超导薄膜。此外，采用反应溅射法还可制得与靶材完全不同的化合物薄膜，如氧化物、氮化物、碳化物和硅化物等。

镀锌特点：锌在干燥空气中比较稳定,不易变色,在水中及潮湿大气中则与氧或二氧化碳作用生成氧化物或碱性碳酸锌薄膜,可以防止锌继续镀氧化,起保护作用。

钪是一种柔软、银白色的过渡金属,常跟钆、铒等混合存在,产量很少,在地壳中的含量约为0.0005%.钪常用来制特种玻璃、轻质耐高温合金. 钪比起钇和镧系元素来,由于离子半径特别小,氢氧化物的碱性也特别弱,因此,…

镝在地壳中的丰度为6ppm，在重稀土中仅低于钇，算是比较富存的重稀土元素，为其应用提供了良好的资源基础。金属镝被用作提高钕铁硼永磁材料矫顽力的添加剂。在钕铁硼磁体中添加2~3%的镝，就能显著提高磁体的矫顽力，…

硅,元素符号Si,原子序数14,原子量28.086,位于第三周期第IVA族，元素硅有无定形硅和晶体硅两种同素异形体.无定形硅为黑色;晶体硅呈钢灰色,有明显的金属光泽、晶格和金刚石相同,硬而脆,能导电,但导电率不如金属且随温度的升高而增加,属半导体.在热处理温度大于750℃时,硅材料由脆性材料转变为塑性材料,在外加应力下,产生滑移位错,形成塑性变形.硅材料还具有一些特殊的物理性质,如硅材料熔化时体积缩小,固化时体积增大. 作为半导体材料,硅具有典型的半导体材料的电学性质. (1)阻率特性 硅材料的电阻率

铈，原子序数为58，属于稀土元素，第六周期系第ΙΙΙB族镧系元素，元素符号为Ce，单质为银灰色的活泼金属，粉末在空气中易自燃，易溶于酸，还原剂。(1)铈作为玻璃添加剂，能吸收紫外线与红外线，现已被大量应用于汽…

可用于屏蔽镀膜的溅射靶材有铜、铬、银、金、不锈钢、铝、二氧化硅等. 铬溅射靶材广泛应用于五金工具镀膜、装饰镀膜、平板显示器镀膜.涂膜厚度一般为2~10um,涂膜具有高硬度、低磨损、耐冲击、抗热冲击和高附着力等…

磁控溅射镀膜技术突出的优点是膜层组织细密、磁控靶可以做成较大的面积.但以往采用的磁控溅射源中的磁场为均匀封闭的磁场,无论是平面靶还是柱状靶,多是利用平行于靶面的磁场分量来约束二次电子在靶面做螺旋线运动.以此提…