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电子束蒸发
电子束加热装置及特点电子束通过5-10KV的电场后被加速,然后聚焦到被蒸发的材料表面,把能量传递给待蒸发的材料使其熔化并蒸发. 无污染:与坩埚接触的待蒸发材料保持固态.…
真空蒸镀
真空蒸镀,简称蒸镀,是指在真空条件下,采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化,粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法…
CVD化学气相沉积法反应步骤
不同成份气相前置反应物由主流气体进来,以扩散机制传输基板表面。理想状况下,前置物在基板上的浓度是零,亦即在基板上立刻反应,实际上并非如此。(2)前置反应物...
化学气相蒸镀(CVD)
化学气相蒸镀乃使用一种或多种气体,在一加热的固体基材上发生化学反应,并镀上一层固态薄膜。优点:(1)真空度要求不高,甚至可以不需要真空,例如热喷覆(2)沉积速率快...
一文读懂半导体材料
多晶硅的纯度要很高,还要用氢氟酸对其进行抛光达到清洗的目的;籽晶上的缺陷会"遗传"给新生长的晶体,所以在选择籽晶时要注意避开缺陷;籽晶的晶向和所要生长的晶体相同;籽晶要经过清洗;根据待生长晶体的导电类型选择要…
TiN氮化钛镀膜特点
有以下的优点:(1)抗磨损(2)具亮丽的外观(3)具安全性,可使用于外科及食品用具...
真空蒸镀可应用在哪些产业
主要产业大多应用于装饰、光学、电性、机械及防蚀方面等,现就比较常见者分述如下:镜片的抗反射镀膜(MgO、MgF2、SiO2等),镜片置于半球支顶,一次可镀上百片以上. 金属、合金或化合物镀膜,应用于微电子当导…
真空热处理加工技术及应用
主要指的是真空技术与热处理技术相结合的新型热处理技术,其中,真空热处理所处的真空环境指的是低于一个大气压的气氛环境,包括低真空、中等真空、高真空和超高真空等,所以,真空热处理实际也属于气氛控制热处理. 真空热…
真空技术名词术语
36.体积流率:在给定温度、压力和给定时间间隔的条件下通过某截面的气体体积,除以该时间. 40.分子流导:气体通过管的两规定截面或孔流动的分子流导为:其分子流率与管的两截面或孔的两侧的平均分子数密度差之比...
影响镀膜质量因素
烘烤和镀膜过程中公转未开,或不转,未及时发现移动热电偶,导致温度不够或过高21、镀膜过程移动电子枪光斑,或光斑位置不正,导致溅点22、镀膜过程中电子枪中O2未开,未及时发现23镀膜过程误按IC5的F3,未及…
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