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钛铝合金溅射镀膜工艺
钛铝合金是一种真空镀膜用合金溅射靶材,在该合金中通过调配钛与铝的含量可以获得不同特性的钛铝合金靶材.
反应溅射
现代表面工程的发展越来越多地需要用到各种化合物薄膜,反应磁控溅射技术是沉积化合物薄膜的主要方式之一.
真空镀膜设备有哪些污染源
真空污染是一个值得被重视的问题,因为这些污染会影响设备性能,应注意定期或随时进行清洁工作.
真空磁控溅射镀膜设备的技术特点
真空磁控溅射镀膜特别适用于反应沉积镀膜,实际上,这种工艺可以沉积任何氧化物、碳化物以及氮化物材料的薄膜.
石英片磁控溅射镀膜的特点
石英片温度的影响:温度较低→薄膜颗粒小→晶界散射多→电阻率下降;温度较高→晶粒过大→缺陷增多→电阻率升高.
超细粉体磁控溅射镀膜实现规模化生产
超细粉体通常泛指粒径处于原子团簇与微粉之间的固体颗粒,其尺寸通常认为介于1纳米到几十微米之间.
晶粒大小对靶材溅射的作用
通常靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量级.晶粒越细小则晶界面积越大,对性能的影响也越大.
磁控溅射靶材镀膜原理详解
磁控溅射是利用磁场束缚电子的运动,提高电子的离化率.与传统溅射相比具有"低温(碰撞次数的增加,电子的能量逐渐降低,在能量耗尽以后才落在阳极)"、"高速(增长电子运动路径,提高离化率,电离出更多的轰击靶材的离子)"两大特点.
氟化物介绍
氟化物薄膜的折射率一般也都比较低,所以常用作减反射膜.氟化物薄膜材料的另一个特点是它们从紫外到红外都具有高度的透明性(CeF3除外,其透明波段为300nm到5μm),因此其在紫外区的应用也具有特别的价值.
氧化物介绍
氧化物薄膜机械牢固性强,化学性能稳定,折射率范围宽,所以是一类极其重要的薄膜材料.

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