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  • 半导体材料的电学性质—硅材料
    硅,元素符号Si,原子序数14,原子量28.086,位于第三周期第IVA族,元素硅有无定形硅和晶体硅两种同素异形体.无定形硅为黑色;晶体硅呈钢灰色,有明显的金属光泽、晶格和金刚石相同,硬而脆,能导电,但导电率不如金属且随温度的升高而增加,属半导体.在热处理温度大于750℃时,硅材料由脆性材料转变为塑性材料,在外加应力下,产生滑移位错,形成塑性变形.硅材料还具有一些特殊的物理性质,如硅材料熔化时体积缩小,固化时体积增大. 作为半导体材料,硅具有典型的半导体材料的电学性质. (1)阻率特性 硅材料的电阻率
  • 活泼金属铈的应用
    铈,原子序数为58,属于稀土元素,第六周期系第ΙΙΙB族镧系元素,元素符号为Ce,单质为银灰色的活泼金属,粉末在空气中易自燃,易溶于酸,还原剂。(1)铈作为玻璃添加剂,能吸收紫外线与红外线,现已被大量应用于汽…
  • 应用于屏蔽镀膜涂层的溅射靶材
    可用于屏蔽镀膜的溅射靶材有铜、铬、银、金、不锈钢、铝、二氧化硅等. 铬溅射靶材广泛应用于五金工具镀膜、装饰镀膜、平板显示器镀膜.涂膜厚度一般为2~10um,涂膜具有高硬度、低磨损、耐冲击、抗热冲击和高附着力等…
  • 沉积氮化钛涂层的几种新技术
    磁控溅射镀膜技术突出的优点是膜层组织细密、磁控靶可以做成较大的面积.但以往采用的磁控溅射源中的磁场为均匀封闭的磁场,无论是平面靶还是柱状靶,多是利用平行于靶面的磁场分量来约束二次电子在靶面做螺旋线运动.以此提…
  • 金属材料名称简介
    铸造性(可铸性)指金属材料能用铸造的方法获得合格铸件的性能。主要由铸造时金属的流动性、收缩特点、偏析倾向等来综合评定。流动性是指液态金属充满铸模的能力,收缩性是指铸件凝固时,体积收缩的程度,偏析是指金属在冷却凝固过程中,因结晶先后差异而造成金属内部化学成分和组织的不均匀性.....
  • 压电陶瓷材料综述
    声音转换器声音转换器是最常见的应用之一。如儿童玩具上的蜂鸣器就是电流通过压电陶瓷的压电效应产生振动,而发出人耳可以听得到的声音。只要用手指压一下打火按钮,打火机上的压电陶瓷就能产生高电压,形成电火花而点燃煤气…
  • 金属材料钽的应用
    钽靶材通常称为裸靶,首先将其与铜背靶进行焊接,然后进行半导体或光学溅射,将钽原子以氧化物形成淀积在基板材料上,实现溅射镀膜;在半导体工业中,目前主要使用金属钽(Ta)通过物理气相沉积(PVD)镀膜并形成阻挡层…
  • 稀土材料-镨
    镨元素符号Pr。稀土元素之一,在潮湿空气里易氧化,易溶于盐酸、硝酸。注意纯镨必须在矿物油或密封塑料中保存。(2)用于制造永磁体。(3)用于石油催化裂化。以镨钕富集物的形式加入Y型沸石分子筛中制备石油裂化催化剂…
  • 半导体材料的电学性质—硅材料
    硅,元素符号Si,原子序数14,原子量28.086,位于第三周期第IVA族,元素硅有无定形硅和晶体硅两种同素异形体.无定形硅为黑色;晶体硅呈钢灰色,有明显的金属光泽、晶格和金刚石相同,硬而脆,能导电,但导电率…
  • 影响陶瓷靶材的性能因素
    目标材料是制备薄膜的主要材料之一,主要用于集成电路、平板、太阳能电池、记录媒体、智能玻璃等,对材料的纯度和稳定性要求较高。不同的方法具有不同的特点,对养护率陶瓷烧结性和显微结构的影响也会有所不同。溅射温度高,…

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