1.直流电源（DC）：直流电源提供稳定的恒定电压或恒定电流。

主要用于：直流磁控溅射（DC Magnetron Sputtering，DCMS）。

施加负电压到靶材，使其成为阴极，吸引离子轰击靶材。

2.中频电源（MF Power）

主要用于： 双靶磁控溅射（Dual Magnetron Sputtering, DMS）。

双阴极交替供电，极性切换避免靶表面电荷积累。交变电场使电子不断被加速，离化率高，等离子体密度高，溅射速率高。

3.射频电源（RF Power）

典型频率: 13.56 MHz，也有 27.12 MHz、40.68 MHz 。

主要用于：射频磁控溅射（RF Magnetron Sputtering），非导电靶材（绝缘材料）的溅射沉积。

射频场，形成高密度振荡等离子体，可溅射绝缘靶材。