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化学气相沉积(CVD)法镀膜详细概述(三)

中诺新材 2023-07-21 10:01:41

六、CVD主要的应用方向

1、在切削工具方面的应用

用CVD涂覆刀具能有效地控制在车、铣和钻孔过程中出现的磨损。使用的涂层多为碳化物、氯化物、氧化物和硼化物等涂层,提高、改善材料或部件的抗氧化、耐磨、耐蚀以及某些电学、光学和摩擦学性能。目前,国外先进工业国家在齿轮上也广泛使用涂层刀具,估计约有80%齿轮滚刀和40%的插齿刀使用了TiN涂层,涂覆后,刀具寿命增加4~8倍,并且提高了进给量和切削速度,刀具的抗月牙磨损性能也显著提高。

2、在耐磨涂层机械零件方面的应用

活塞环、注射成形用缸体、挤压用螺旋桨轴及轴承等零部件在滑动中易磨损,因此,目前进行研究和应用的有缸体和螺旋桨的TiC涂层,钟表轴承的B涂层,滚珠轴承的Si3N4涂层等,耐磨性好、摩擦因数低、与基体的沾附性好。

3、微电子技术

在半导体器件和集成电路的基本制造流程中,有关半导体膜的外延、P-N结扩散元的形成、介质隔离、扩散掩膜是工艺核心步骤,化学气相沉积在制备这些材料层的过程中逐渐取代了如硅的高温氧化和高温扩散等旧工艺,在现代微电子技术组占主导地位。在超大规模集成电路中,化学气相沉积可以用来沉积多晶硅膜、钨膜、铅膜、氧化硅膜等,这些薄膜材料可以用作栅电极、多层布线的层间绝缘膜、金属布线、电阻及散热材料等。

4、超导技术

CVD制备超导材料是美国无线电公司(RCA)在20世纪60年代发明的,用化学气相沉积生成的Nb3Sn低温超导材料涂层致密,厚度轻易控制,力学性能好,是目前烧制高场强、小型磁体的最优材料。为提高Nb3Sn超导性能,很多国家在掺杂、基带材料、脱氢、热处理等方面做了大量研究工作,使CVD法成为生成Nb3Sn的主要方法之一。

5、在其他领域的应用

在光学领域中,金刚石薄膜被称为未来的光学材料,它具有波段透明和极其优异的抗热冲击、抗辐射能力,可用作大功率激光器的窗口材料,导弹和航空航天装置的球罩材料。上海交通大学把CVD金刚石薄膜制备技术应用于拉拔模具,不仅攻克了涂层均匀涂覆、附着力等关键技术,而且解决了金刚石涂层抛光这一国际性难题。


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