磁控溅射方法可用于制备多种材料，如金属、半导体、绝缘子等。它具有设备简单、易于控制、涂覆面积大、附着力强等优点。磁控溅射发展至今，除了上述一般溅射方法的优点外，还实现了高速、低温、低损伤。

1.各种功能薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能。例如，在低温下沉积氮化硅减反射膜以提高太阳能电池的光电转换效率。

2.微电子：可作为非热镀膜技术，主要用于化学气相沉积（CVD）。

3.装饰领域的应用：如各种全反射膜和半透明膜；比如手机壳、鼠标等。

4.一些不适合化学气相沉积（MOCVD）的材料可以通过磁控溅射沉积，这种方法可以获得均匀的大面积薄膜。

5.机械工业：如表面功能膜、超硬膜、自润滑膜等。这些膜能有效提高表面硬度、复合韧性、耐磨性和高温化学稳定性，从而大大提高产品的使用寿命。

6.光领域：闭场非平衡磁控溅射技术也已应用于光学薄膜（如增透膜）、低辐射玻璃和透明导电玻璃。特别是，透明导电玻璃广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波和射频屏蔽器件和器件、传感器等。

除上述领域外，磁控溅射在高温超导薄膜、铁电薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜的研究中也发挥着重要作用。