一、镀膜的常见分类

1.分类

1.1.镀膜技术是表面技术的一类.

1.2.常见的分类:a.湿式镀膜法:b.干式镀膜法。

1.2.1.湿式镀膜法可分电镀法、化学镀法，

1.2.2.干式镀膜法常称真空镀膜法、气相沉积法。可分为;物理气相沉积(PVD),化学气相沉积(CVD)。

PVD一般可分为:真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜。

2.历史

气相沉积技术是近30年来迅速发展的一门新技术，应用较早，但受真空技术和其它相关技术的限制，发展速度较慢。直到二战时期，法西斯德国将这技术服务于战争，制备各种军用光学镜片和反光镜，从而使这一技术在光学工业中得到迅速发展，并用渐形成了薄膜光学，成为光学的重要的分支。它不只是真空应用技术，而是综合了物理、化学一系列的新技术的结果。

3.定义1

在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发(或溅射)，使其沉积在被涂覆的物体(称基片、基板或基体)上的方法称为真空镀膜法。

真空蒸镀简称蒸镀，是在真空条件下，用一定的方法加热锻膜材料(简称膜料)使之气化，并沉积在工件表面形成固态薄膜。

以动量传递的方法，用荷能粒子轰击材料表面，使其表面原子获得足够的能量而飞逸出来的过程称为溅射。磁控溅射是一种高溅射速率、低基片加热的溅射技术，称为高速低温溅射技术。

离子镀膜技术简称离子镀，离子镀是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物质或其反应产物沉积在基片上。

电阻加热蒸镀是用丝状或片状的钨、钼、钽高熔点金属做成适当形状的蒸发源，将膜料放在其中，接通电源，电阻直接加热膜料而使其蒸发，或者把膜料放入AI2O3、BeO等坩埚中进行间接电阻加热蒸发。

3.定义2

电子束加热蒸镀是将膜料放入水冷铜坩埚中，利用高能量密度的电子束加热，使膜料熔触气化并凝结在基体表而成膜。

为了改善附着力，增加膜的致密性，镀膜前，镀膜过程中辅助离子束进行轰击的镀膜方法称为离子束辅助蒸镀.

4.应用

真空镀膜技术属于表面处理技术的一类，应用非常广泛。

1.光学膜:用于CCD、CMOS中的各种滤波片，高反镜。

2.功能膜:用于制造电阻、电容，半导体薄膜，刀具镀膜，车灯，车灯罩，激光，太阳能等:

3.装饰膜:手机/家电装饰镀膜，汽车标牌，化妆品盒盖，建筑装饰玻璃、汽车玻璃，包装袋。

5.现状

由于真空镀膜起步较晚，又受真空技术的阻制，前期发展较慢，属于新的技术。目前，国外一些发达的国家应用较为广泛。国内起步更晚，受技术的限制，应用范围较少潜力较大，待进一步开发。