ITO的全称是氧化铟锡,是由不同比例的铟、锡和氧组成的.ITO和ITO溅射靶的物质是一样的,后者实际上是氧化铟和氧化锡粉末按一定比例混合形成的黑灰色陶瓷半导体.

ITO溅射靶材的制作方法

真空热压

真空热压利用热能和机械能对ITO粉体进行致密化,可生产出密度为91%~96%的高密度ITO陶瓷靶材.该方法可以轻松获得接近预期密度且孔隙率接近于零的ITO靶材.但受设备和模具尺寸的限制,真空热压在制备大尺寸溅射靶材方面优势较小.

热等静压

热等静压 (HIP)通过在压力下烧结或在高温下加压来制备ITO 溅射靶.与真空热压类似,HIP在加热和加压状态下可以获得高密度(几乎是理论密度)和优异的物理和机械性能的产品.但也受设备压力和气缸尺寸的限制.

常温烧结

室温烧结是先通过浆料浇注或预压制备高密度靶材预制件,然后在一定气氛和温度下烧结得到ITO靶材.其最大的优势在于能够生产大尺寸的溅射靶材.但与其他烧结方法相比,这种方法制成的靶材纯度较低.

冷等静压

冷等静压(CIP)在常温下以橡胶或塑料为覆模材料,以液体为压力介质传递超高压.CIP还可以制备更大尺寸的ITO溅射靶材.而且价格便宜,适合大批量生产.但CIP要求材料在0.1~0.9 MPa的纯氧环境中经过1500~1600°C的高温烧结,具有较高的风险.

ITO靶材/ITO薄膜/ITO导电玻璃

这三个词是相互关联的.简而言之,ITO导电玻璃是通过溅射或蒸发在一块超薄玻璃上镀上一层ITO薄膜制成的.这里,ITO靶是提供氧化铟锡原子的源;当这些氧化铟锡原子沉积在基板(玻璃)上时得到ITO薄膜,涂有ITO薄膜的玻璃称为ITO导电玻璃.

ITO 溅射靶材应用

ITO溅射靶材及其衍生品如ITO薄膜、ITO玻璃等,在各行各业有着广泛的应用.ITO靶材常用于制造液晶显示器(LCD)、平板显示器、等离子显示器和触控面板等显示器的透明导电涂层.ITO薄膜用于有机发光二极管、太阳能电池和抗静电涂层.除了电子工业,ITO 靶材还用于各种光学镀膜,最着名的是红外反射镀膜和汽车用钠蒸汽灯玻璃.